多弧离子真空镀膜技术特点

离子镀的原理：离子镀是在真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者**结合起来， 不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜 附着力 强，绕射性好，膜材广泛等。

多弧离子镀工艺的**特点是我们可以通过产生由高度电离的蒸发物质文化组成的等离子体，其中离子之间具有一定很高的动能。蒸发、电离和加速都集中在阴极斑及其附近的一小块区域。其特点如下：

(1)较显著的特点是从阴极直接产生等离子体。

（2）入射产生粒子进行能量高，涂层材料密度高，强度和耐久性好。

（3）电离率高，一般达到60％ ~ 80％。

（4）沉积速度快，镀覆能力好。

(5)设备相对简单，用低压电源工作更安全。

（6）一弧多用。电弧产生既是蒸发源和电离源，也是一个离子进行溅射数据清洗的加热源和离子源。

(7)外加磁场可以改善电弧放电，细化电弧，细化涂层颗粒，提高带电粒子的比例，改善阴极靶的刻蚀均匀性，提高靶的利用率。